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首屆國(guó)際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會(huì)在京召開(kāi)


發(fā)布日期：2012-09-13 閱讀次數(shù)：

供稿：光電學(xué)院     攝影、編輯：新聞中心 斯君



　　9月12日，首屆國(guó)際PROLITH光刻仿真技術(shù)研討會(huì)在北京隆重召開(kāi)，本次會(huì)議由國(guó)際著名的半導(dǎo)體設(shè)備公司KLA-Tencor和Anchor Semiconductor主辦，北京理工大學(xué)承辦。


      北京理工大學(xué)光學(xué)專(zhuān)家周立偉院士，國(guó)家科技重大專(zhuān)項(xiàng)02專(zhuān)項(xiàng)技術(shù)總師（專(zhuān)家組組長(zhǎng)）葉甜春研究員，北理工光電學(xué)院院長(zhǎng)薛唯，副院長(zhǎng)許廷發(fā)，光電成像技術(shù)與系統(tǒng)教育部重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室李艷秋教授出席了此次會(huì)議。美國(guó)和中國(guó)相關(guān)企業(yè)、科研院所和大學(xué)及國(guó)內(nèi)外光刻技術(shù)專(zhuān)家、學(xué)者90余人參加了會(huì)議。Anchor Semiconductor 公司的副總裁Kenneth Wang主持會(huì)議。


　　首先，KLA-Tencor公司、Anchor Semiconductor公司、北京理工大學(xué)光電學(xué)院三方在光刻仿真技術(shù)研發(fā)、技術(shù)交流及人才培養(yǎng)方面簽署了意向合作協(xié)議。


 
　　KLA-Tencor公司的Patrick Lee做了PROLITH在光刻仿真技術(shù)、光刻新工藝研發(fā)，光刻膠研制，光刻機(jī)研發(fā)等方面的技術(shù)及應(yīng)用報(bào)告。北京理工大學(xué)李艷秋教授在會(huì)議上做了光刻仿真技術(shù)及協(xié)同設(shè)計(jì)的學(xué)術(shù)報(bào)告，對(duì)課題組在光刻仿真技術(shù)方面取得的最新進(jìn)展進(jìn)行了全面、細(xì)致和深入的介紹，展現(xiàn)了我校在此領(lǐng)域研發(fā)的水平、地位和作用。

　　本次會(huì)議進(jìn)一步促進(jìn)和擴(kuò)大中國(guó)光刻仿真技術(shù)在國(guó)際相關(guān)領(lǐng)域的合作和影響，為北京理工大學(xué)開(kāi)展國(guó)內(nèi)外產(chǎn)、學(xué)、研實(shí)質(zhì)性合作及人才培養(yǎng)奠定了重要基礎(chǔ)，有力地支撐了我國(guó)光刻技術(shù)和相關(guān)設(shè)備研發(fā)。

（ 審稿人：李艷秋）